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分散劑在砂磨機(jī)超細(xì)研磨中的應(yīng)用原理及其要求
文章出處:康博砂磨機(jī)   作者:東莞市康博機(jī)械有限公司   發(fā)表時(shí)間:2023-10-24

分散劑在砂磨機(jī)超細(xì)研磨中的應(yīng)用原理及其要求

在砂磨機(jī)中,物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運(yùn)動(dòng)的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實(shí)現(xiàn)物料顆粒的粒度變小,比表面積增大。在粒度逐漸細(xì)化的過(guò)程中,顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會(huì)重新團(tuán)聚。

因此,可以認(rèn)為顆粒超細(xì)粉碎到一定程度后,伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質(zhì)變,就會(huì)出現(xiàn)一個(gè)“粉碎?團(tuán)聚”的可逆過(guò)程。當(dāng)這正反兩個(gè)過(guò)程的速度相等時(shí),便達(dá)到了粉碎過(guò)程中的動(dòng)態(tài)平衡,則顆粒尺寸達(dá)到極限值。此時(shí),進(jìn)一步延長(zhǎng)粉碎時(shí)間是徒勞的。因?yàn)檫@時(shí)的機(jī)械力已不足以解聚團(tuán)聚體使顆粒進(jìn)一步破碎,只能用于維持粉碎平衡,并有可能造成更多小顆粒團(tuán)聚體,于是,所謂的“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象就會(huì)出現(xiàn)。

從某種程度上說(shuō),分散劑的恰當(dāng)選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象唯一的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。

分散劑的作用原理:使用分散劑可以穩(wěn)定分散顆粒體系,防止黏性介質(zhì)的顆粒團(tuán)聚。可通過(guò)三種可能的途徑:
  (1)通過(guò)靜電排斥作用(DLVO理論,Deryagin-Landau-Verwey-Overbeek);
  (2)通過(guò)空間位阻作用(HVO理論,Hesselink-Vrij-Overbeek);
  (3)通過(guò)靜電排斥和空間位阻的綜合作用。

其過(guò)程如下:
  (1)吸附于固體顆粒的表面,降低液-液或固-液之間的界面張力,使凝聚的固體顆粒表面易于濕潤(rùn)。
  (2)在固體顆粒的表面形成吸附層,固體顆粒表面的電荷增加,提高形成立體阻礙的顆粒間的反作用力。
  (3)使固體粒子表面形成雙分子層結(jié)構(gòu),外層分散劑極性端與水有較強(qiáng)親合力,形成空間位阻效應(yīng)。
  (4)使體系均勻,懸浮性能增加,不沉淀。

一種適宜的分散劑應(yīng)滿足以下要求:
  (1)分散性能好,防止粒子之間相互聚集;
  (2)與填料有適當(dāng)?shù)南嗳菪裕粺岱€(wěn)定性良好;
  (3)成型加工時(shí)的流動(dòng)性好;
  (4)分散劑分子吸附顆粒為物理吸附,而不影響產(chǎn)品的性能;
  (5)無(wú)毒、價(jià)廉。

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